වෘත්තීය චීනය චීනය 99.999% ඉහළ සංශුද්ධතාවයකින් යුත් හයිඩ්‍රජන් ක්ලෝරයිඩ් වායුව

අපගේ ප්‍රගතිය රඳා පවතින්නේ වෘත්තීය චීන චීනය සඳහා උසස් නිෂ්පාදන, අපූරු කුසලතා සහ අඛණ්ඩව ශක්තිමත් කරන ලද තාක්‍ෂණික බලවේග මත ය. 99.999% ඉහළ සංශුද්ධතාවයකින් යුත් හයිඩ්‍රජන් ක්ලෝරයිඩ් වායුව, අපගේ සමාගමට සහ නිෂ්පාදන පහසුකමට යාමට සාදරයෙන් පිළිගනිමු. ඔබට තවදුරටත් සහාය අවශ්‍ය නම් අප හා සම්බන්ධ වීමට ඔබට කිසිදු වියදමක් දැරීමට සිදු නොවේ.
අපගේ ප්‍රගතිය රඳා පවතින්නේ දියුණු නිෂ්පාදන, අපූරු කුසලතා සහ අඛණ්ඩව ශක්තිමත් කරන ලද තාක්‍ෂණික බලවේග මත ය.චීන HCl ගෑස්, හයිඩ්‍රජන් ක්ලෝරයිඩ් වායුව, "අවංකව කළමනාකරණය කිරීම, ගුණාත්මක භාවයෙන් ජයග්‍රහණය කිරීම" යන කළමනාකරණ මූලධර්මයට අනුකූලව, අපගේ ගනුදෙනුකරුවන්ට විශිෂ්ට නිෂ්පාදන සහ සේවාවක් සැපයීමට අපි අපගේ උපරිමය කරන්නෙමු. දේශීය හා ජාත්‍යන්තර සේවාදායකයින් සමඟ එක්ව ප්‍රගතියක් ලබා ගැනීමට අපි බලාපොරොත්තු වෙමු.

තාක්ෂණික පරාමිතීන්:

හයිඩ්‍රජන් ක්ලෝරයිඩ් හි රසායනික සූත්‍රය HCl වේ. හයිඩ්‍රජන් ක්ලෝරයිඩ් අණුව ක්ලෝරීන් පරමාණුවකින් සහ හයිඩ්‍රජන් පරමාණුවකින් සමන්විත වේ. එය තියුණු ගන්ධයක් සහිත වර්ණ රහිත වායුවකි. විඛාදනයට ලක්වන, දහනය කළ නොහැකි වායුව, ජලය සමඟ ප්‍රතික්‍රියා නොකරන නමුත් ජලයේ පහසුවෙන් ද්‍රාව්‍ය වේ. එය බොහෝ විට හයිඩ්‍රොක්ලෝරික් අම්ල දුම ආකාරයෙන් වාතයේ පවතී. හයිඩ්‍රජන් ක්ලෝරයිඩ් එතනෝල් සහ ඊතර් වල පහසුවෙන් ද්‍රාව්‍ය වන අතර තවත් බොහෝ කාබනික ද්‍රව්‍යවල ද ද්‍රාව්‍ය වේ; ජලයේ ඉතා පහසුවෙන් ද්‍රාව්‍ය වේ, 0°C දී, ජල පරිමාවකින් හයිඩ්‍රජන් ක්ලෝරයිඩ් වෙළුම් 500 ක් පමණ විසුරුවා හැරිය හැක. එහි ජලීය ද්‍රාවණය සාමාන්‍යයෙන් හයිඩ්‍රොක්ලෝරික් අම්ලය ලෙස හඳුන්වන අතර එහි විද්‍යාත්මක නාමය හයිඩ්‍රොක්ලෝරික් අම්ලයයි. සාන්ද්‍රිත හයිඩ්‍රොක්ලෝරික් අම්ලය වාෂ්පශීලී වේ. හයිඩ්‍රජන් ක්ලෝරයිඩ් අවර්ණ වන අතර, ද්‍රවාංකය -114.2°C සහ තාපාංකය -85°C වේ. එය වාතයේ දහනය නොවන අතර තාප ස්ථායී වේ. එය 1500°C පමණ වන තෙක් දිරාපත් නොවේ. එය හුස්ම හිර කරන ගන්ධයක් ඇති අතර ඉහළ ශ්වසන පත්රිකාවට දැඩි කෝපයක් ඇති කරයි, සහ ඇස්, සම සහ ශ්ලේෂ්මල පටල වලට විඛාදනයට ලක් කරයි. ඝනත්වය වාතයට වඩා වැඩිය. වියළි හයිඩ්‍රජන් ක්ලෝරයිඩ් වල රසායනික ගුණාංග ඉතා අක්‍රියයි. ක්ෂාර ලෝහ සහ ක්ෂාරීය පෘථිවි ලෝහ හයිඩ්‍රජන් ක්ලෝරයිඩ් තුළ දහනය කළ හැකි අතර, සෝඩියම් දහනය වන විට එය දීප්තිමත් කහ දැල්ලක් නිකුත් කරයි. හයිඩ්‍රජන් ක්ලෝරයිඩ් ඛනිජ රසායනික කර්මාන්තයේ දී උත්ප්‍රේරකවල කාර්යක්ෂමතාව සහ පුනර්ජනනය ප්‍රවර්ධනය කිරීමට සහ ඛනිජ තෙල්වල දුස්ස්රාවිතතාවය වැඩි කිරීමට භාවිතා කරයි; එය ක්ලෝරෝසල්ෆොනික් අම්ලය, කෘතිම රබර් ආදිය නිෂ්පාදනය කිරීමට භාවිතා කළ හැකිය; එය ඩයි වර්ග, සුවඳ විලවුන්, ඖෂධ සංස්ලේෂණය, විවිධ ක්ලෝරයිඩ් සහ විඛාදන නිෂේධක සෑදීමට සහ පිරිසිදු කිරීම, අච්චාරු දැමීම, විද්‍යුත් ආලේපන ලෝහ, සම් පදම් කිරීම, පිරිපහදු කිරීම හෝ දෘඩ ලෝහ නිෂ්පාදනය කිරීමට ද භාවිතා කළ හැකිය. අධි-පිරිසිදු හයිඩ්‍රජන් ක්ලෝරයිඩ් වායුව ඉලෙක්ට්‍රොනික කර්මාන්තයේ සිලිකන් එපිටැක්සියල් වර්ධනය, වාෂ්ප අවධි ඔප දැමීම, ලබා ගැනීම, කැටයම් කිරීම සහ පිරිසිදු කිරීමේ ක්‍රියාවලීන්හි බහුලව භාවිතා වේ.

අයදුම්පත:

①ද්‍රව්‍ය:

හයිඩ්‍රජන් ක්ලෝරයිඩ් බොහොමයක් හයිඩ්‍රොක්ලෝරික් අම්ලය නිෂ්පාදනය සඳහා යොදා ගනී. එය අනෙකුත් කාර්මික රසායනික පරිවර්තනයන්හි වැදගත් ප්‍රතික්‍රියාකාරකයක් ද වේ.

②අර්ධ සන්නායක:

අර්ධ සන්නායක කර්මාන්තයේ දී, එය අර්ධ සන්නායක ස්ඵටික කැටයම් කිරීමට සහ ට්‍රයික්ලෝරෝසිලේන් (SiHCl3) හරහා සිලිකන් පිරිසිදු කිරීමට යොදා ගනී.

③ රසායනාගාරය:

රසායනාගාරයේදී, වායුවේ නිර්ජලීය ආකාර ක්ලෝරයිඩ් මත පදනම් වූ ලුවිස් අම්ල ජනනය කිරීම සඳහා විශේෂයෙන් ප්‍රයෝජනවත් වන අතර, ඒවායේ ලුවිස් අඩවි ක්‍රියා කිරීමට නම් ඒවා සම්පූර්ණයෙන්ම වියළි විය යුතුය.

සාමාන්‍ය පැකේජය:

වාසි:

①ඉහළ සංශුද්ධතාවය, නවතම පහසුකම;

②ISO සහතික නිෂ්පාදකයා;

③ වේගවත් බෙදාහැරීම;

④ සෑම පියවරකදීම තත්ත්ව පාලනය සඳහා මාර්ගගත විශ්ලේෂණ පද්ධතිය;

⑤පිරවීමට පෙර සිලින්ඩරය හැසිරවීම සඳහා ඉහළ අවශ්‍යතාවයක් සහ සූක්ෂම ක්‍රියාවලියක්;අපගේ ප්‍රගතිය රඳා පවතින්නේ වෘත්තීය චීන චීනය සඳහා උසස් නිෂ්පාදන, අපූරු කුසලතා සහ අඛණ්ඩව ශක්තිමත් කරන ලද තාක්‍ෂණික බලවේග මත ය 99.999% ඉහළ සංශුද්ධතාවයකින් යුත් හයිඩ්‍රජන් ක්ලෝරයිඩ් HCl වායුව, අපගේ සමාගමට සහ නිෂ්පාදන පහසුකමට යාමට සාදරයෙන් පිළිගනිමු. ඔබට තවදුරටත් සහාය අවශ්‍ය නම් අප හා සම්බන්ධ වීමට ඔබට කිසිදු වියදමක් දැරීමට සිදු නොවේ.
වෘත්තීය චීනයචීන HCl ගෑස්, හයිඩ්‍රජන් ක්ලෝරයිඩ් වායුව, "අවංකව කළමනාකරණය කිරීම, ගුණාත්මක භාවයෙන් ජයග්‍රහණය කිරීම" යන කළමනාකරණ මූලධර්මයට අනුකූලව, අපගේ ගනුදෙනුකරුවන්ට විශිෂ්ට නිෂ්පාදන සහ සේවාවක් සැපයීමට අපි අපගේ උපරිමය කරන්නෙමු. දේශීය සහ ජාත්‍යන්තර සේවාදායකයින් සමඟ එක්ව ප්‍රගතියක් ලබා ගැනීමට අපි බලාපොරොත්තු වෙමු.